⑴.产品介绍:本公司生产的PB系列研磨抛光微粉,是以**氧化铝为主要原料,添加特殊矿化剂,晶粒形貌呈平板状。硬度仅次于金刚石,是非常优异的精密研磨抛光、研磨微粉。 ⑵.性能:平板型氧化铝研磨抛光粉颗粒呈*特的平板状结构,硬度高达莫氏九级,磨削力强,不易产生划痕,可得到高效率、高精度的被加工表面,有特殊设计的粒度分布,质量同日本 FUJIMI公司的PWA和美国Microgrit 的WCA相当。 ⑶.特点 :平板型氧化铝研磨抛光微粉与其它氧化铝研磨抛光微粉的区别是:片状,硬度高,粒度均匀。 特点为: ①.形状为平板状,即片状,使磨擦力增大,提高了磨削速度,提高了工效,因此可减少磨片机的数量、人工和磨削时间,如显像管玻壳磨削工效能提高3-5倍; ②.由于形状为平板状,故对于被磨对象(如半导体硅片等)来说不易划伤,合格品率可提高10%至15%,如半导体硅片,其合格品率一般能达到99%以上; ③.由于硬度比普通氧化铝研磨抛光微粉高,故用量比普通氧化铝研磨抛光微粉要少,如果磨同样数量的产品,其用量比普通氧化铝研磨抛光微粉要节约40%至50%; ④.与国外同类产品相比,质量达到或**过国外同类产品,品质已达到国际标准,但产品价格只有国外同类产品的60%--70%; ⑤.由于平板型氧化铝研磨抛光微粉的优良性能,故加工的产品合格品率高,质量稳定,生产成本只有原来的50%-60%。 ⑷.产品指标: 项目 物理指标 产品型号 外观 密度 莫氏硬度 显微硬度 粒度D50 PB-3 白色粉末 3.96~3.98g/cm3 9.0 2200-2300kg/mm 3.0±0.3 μm PB-5 白色粉末 3.96~3.98g/cm3 9.0 2200-2300kg/mm 4.8±0.3 μm PB-6 白色粉末 3.96~3.98g/cm3 9.0 2200-2300kg/mm 6.2±0.5 μm PB-8 白色粉末 3.96~3.98g/cm3 9.0 2200-2300kg/mm 8.0±0.8 μm PB-10 白色粉末 3.96~3.98g/cm3 9.0 2200-2300kg/mm 10.5±1.0 μm PB-12 白色粉末 3.96~3.98g/cm3 9.0 2200-2300kg/mm 12.5±1.0 μm PB-15 白色粉末 3.96~3.98g/cm3 9.0 2200-2300kg/mm 14.5±1.0 μm ⑸.用途: ①.电子行业:半导体单晶硅片、压英晶体、化合物半导体(、磷化铟)的研磨抛光。 ②.玻璃行业:硬质玻璃和显象管玻壳的加工。 ③.涂附行业:特种涂料和等离子喷涂的填充剂。 ④.金属和陶瓷加工业。